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LAS 5000XD

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Résumé du catalogue produit
Bénéfices Client
  • Maintenance réduite et faible coût de possession grâce à l'absence de besoin de purge à l'azote ou à l'air sec.
  • Optimisation du processus entraînant des coûts de fonctionnement réduits.
Applications
  • Contrôle des fuites d'ammoniac (DeNox).
  • Contrôle du processus et de la combustion.
  • Contrôle des émissions de HF dans les usines d'aluminium.
  • Contrôle de la réduction d'HCl/SO2.
  • Contrôle de l'éthylène dans les fours de craquage.
  • Contrôle du niveau de HCl dans la production de semi-conducteurs.
  • Contrôle de la concentration d'ammoniac dans les usines d'aliments pour animaux, d'engrais, etc.
Caractéristiques Principales
  • Mesure très sensible et sélective avec un rapport signal/bruit élevé.
  • Pas de dérive de mesure et temps de réponse de 1 seconde.
  • Large gamme dynamique de mesure de ppm à %.
  • Communication en temps réel entre émetteur et récepteur.
  • Robuste et prêt pour Ex Zone II (certification à venir).
Pourquoi Choisir le LAS 5000XD?
  • Aucun système d'échantillonnage nécessaire.
  • Pas d'influence de la température du gaz ni d'interférence de la matrice gazeuse.
  • Mesure sans étalonnage avec haute précision et temps de réponse rapide.
  • Fonctionnalité ClearPath embarquée pour supprimer les interférences de l'humidité relative, de l'O2 ou du CO2.
Spécifications Techniques
  • Gamme de concentration pour divers gaz comme NH3, HF, CO, CO2, O2, HCl.
  • Technologie ADLAS avec design opto-mécanique optimisé et électronique à faible dérive.
  • Précision < 1% de FS, temps de réponse de 1 seconde, linéarité ≤ ±1%.
  • Température maximale du gaz de process jusqu'à +1200 °C selon la gamme de concentration.
  • Pression du gaz de process jusqu'à 2 bars max (absolu).
  • Communication via Modbus RTU (RS485) / Ethernet (RJ45) avec serveur web intégré.
  • Consommation d'air pour purge principale et secondaire selon les normes ISO 8573.1 Classe 2-3.
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Extraits du catalogue

LAS 5000XD-1

Analyseur de gaz in-situ TDLS SYSTÈME DE MESURE PROCESS & ÉMISSIONS ✔ Aucun système d’échantillonnage nécessaire ✔ Pas d’interférence de la matrice gazeuse ✔ Mesure sans étalonnage ✔ Mesure de concentration de gaz haute précision et temps de réponse rapide ✔ New Fonctionnalité ClearPath embarquée ߒ CLEARPATH Les interfCrences de lɢhumidité relative, de l’O2 ou du CO2 sont supprimées dans les zones de purge. PRINCIPALES CARACTERISTIQUES Mesure très sensible et sélective Rapport signal/bruit élevé Large gamme dynamique de mesure de ppm à % Communication en temps réel entre Emetteur (Tx) and Récepteur (Rx) Robuste, prêt pour Ex Zone II (certification à UNE GAMME ETENDUE D’APPLICATIONS POUR LE CONTROLE DES EMISSIONS ET DU PROCESS : Contrôle des fuites d’ammoniac (DeNox) Contrôle du process et de la combustion Bénéfices utilisateur : Pas besoin de purge à l’air sec ou à l’azote Très grande précision de la mesure d’O2 Très grande précision de la mesure d’H2O Très grande précision de la mesure de CO2 Contrôle des émissions de HF dans les usines d’aluminium Contrôle de la réduction d’HCl/SO2 Contrôle de l’éthylène dans four de craquage Contrôle du niveau de HCl dans la production de semi-conducteur Contrôle de la concentration d’ammoniac dans les usines d’aliments pour animaux, d’engrais, etc. BÉNÉFICES CLIENT M aintenance réduite et faible coût de possession P as besoin de purge à l’azote ou à l’air sec : il suffit d’air instrument ne contenant pas d’huile et de poussière Serveu

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LAS 5000XD-2

SYSTÈME DE MESURE PROCESS & ÉMISSIONS Analyseur de gaz in-situ TDLS LAS 5000XD SPÉCIFICATIONS TECHNIQUES Gamme de concentration : NH3 + H2O HF CO + H2O CO + CO2 CO2 + H2O O2 HCl + H2O Autres gaz 0–10 ppm / 0–5000 ppm + 0–5% / 0–40% 0–3 ppm / 0–500 ppm 0-50 ppm / 0-1% + 0-5% / 0-40% 0-1% / 0-100% + 0-1% / 0-100% A venir A venir A venir Disponibles sur demande ADLAS (Advanced Detection Laser Absorption Spectroscopy) • Optimized Opto-Mechanical Design • High Speed Low-Drift Electronics Précision Temps de réponse (0–90%) Linéarité T° Gaz de process (°C max) NH3 + H2O / HCl + H2O / HF CO + H2O / O2...

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