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Outils pour l'alignement de masque Oriel

Outils pour l'alignement de masque Oriel
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Extraits du catalogue

Outils pour l'alignement de masque Oriel - 1

214 Sources lumineuses DOCUMENTATION TECHNIQUE SOURCES D’ÉTALONNAGE SOURCES AU DEUTÉRIUM SOURCES LAMPES À ARC INCANDESCENTES ILLUMINATEURS DE FIBRES & DE MONOCHROMATEURS SIMULATEURS SOLAIRES INSTRUMENTS DE PHOTOLITHOGRAPHIE ACCESSOIRES Téléphone : + 3 3 ( 0 ) 1 . 6 0 . 9 1 . 6 8 . 6 8 • T é l é c o p i e : + 3 3 ( 0 ) 1 . 6 0 . 9 1 . 6 8 . 6 9 Outils pour l'alignement de masque Oriel Fixation pour l'alignement de masque et source d'exposition divergente. Pour construire un système complet de photolithographie, vous avez besoin des quatre composants suivants en plus de la source d'exposition (cf. page 218) : • Fixation pour alignement de masque • Support de substrat ou de wafer • Support de masque d'exposition • Glissière de précision Dans des termes très simples, la structure ressemble à un gaufrier amovible avec des réglages micrométriques. La base est la fixation pour l'alignement du masque, qui fournit le positionnement X-Y-Z de la "gaufre". La gaufre, en l'occurrence le substrat, repose au-dessus de la fixation sur un support de substrat ; enfin, le couvercle est un support de masque, le masque en place se fermant sur le substrat. Le substrat étant chargé et aligné sur le masque, la structure est déplacée manuellement et mise en place pour l'exposition sous la lentille de collimation de la source d'éclairage à l'aide d'une glissière. L'exposition s'effectue par ouverture et fermeture de l'obturateur de source lumineuse. Après l'exposition, la structure revient à son emplacement de départ pour le retrait du substrat. Glissière de précision Support de masque Dispositif d’alignement de masque Support de tranche de substrat Figure 1 : Les quatre composants d'un système de photolithographie de base. Fixation pour l'alignement de masque Le 83210-V est une fixation qui accueille un substrat (ou un wafer) monté et un support de masque monté pour chaque taille de substrat (les supports de substrat et de masque doivent être achetés séparément). Cette fixation accueille des substrats de 25,4 x25,4 mm à 152,4 x 152,4 mm et les masques correspondants de 50,8 x50,8 mm à 177,8 x 177,8 mm. Changez la taille des substrats en changeant tout simplement de substrat et de support de masque. Utilisez le mode de contact sous vide pour une résolution modérée des motifs d'une dimension de 2 microns. Si l'usure du masque pose problème, opérez en mode d'impression de proximité avec une résolution de 25 microns. Supports de substrats ou de wafers Nos supports de substrats ou de wafers supportent le vide qui les maintient en place lors de l'alignement et de l'exposition. Les supports de substrats utilisent trois broches en acier durci permettant un premier alignement. Les supports de wafers comportent deux surfaces planes qui sont couplées avec les méplats du wafer pour obtenir ce premier alignement. Ces supports accueillent des substrats ou des wafers de 25,4 x 25,4 mm à 152,4 x 152,4 mm d'une épaisseur maximale de 6,35 mm. Des tailles personnalisées, par exemple un support de wafer pour positionner un wafer de diamètre extérieur de 101,6 mm ou de 127 mm sur un masque de 152,4 mm (6 pouces), sont disponibles sur demande. Contactez un ingénieur technico-commercial et indiquezlui vos spécifications.

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Support de masque de photolithographie Les supports de masque ont un cadre qui s'ajuste sur les parties supérieure et latérales du masque tandis que la partie inférieure du masque repose sur un joint étanche statique en néoprène. Lors d'un contact à vide, le masque et le substrat sont plaqués l'un sur l'autre. Les masques jusqu'à 6,35 mm d'épaisseur sont maintenus mécaniquement par trois broches en acier durci. Notre conception requiert que le masque soit plus grand de 25,4 mm que le substrat, par exemple un substrat de 152,4 x 152,4 mm ou un wafer de diamètre externe 152,4 mm s'accorde...

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216 Sources lumineuses DOCUMENTATION TECHNIQUE SOURCES D’ÉTALONNAGE SOURCES AU DEUTÉRIUM SOURCES LAMPES À ARC INCANDESCENTES ILLUMINATEURS DE FIBRES & DE MONOCHROMATEURS SIMULATEURS SOLAIRES INSTRUMENTS DE PHOTOLITHOGRAPHIE ACCESSOIRES Téléphone : + 3 3 ( 0 ) 1 . 6 0 . 9 1 . 6 8 . 6 8 • T é l é c o p i e : + 3 3 ( 0 ) 1 . 6 0 . 9 1 . 6 8 . 6 9 Choisir une source lumineuse Choisir la taille du faisceau (2 x 2 à 10 x 10) Choisir la taille du faisceau (2 x 2 à 10 x 10) Choisir la taille du faisceau (2 x 2 à 10 x 10) Choisir l’irradiance (500 W ou 1000 W) Choisir l’irradiance (500 W ou 1000 W)...

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Références pour commander Nous vous recommandons de contacter un Ingénieur d'applications avant de commander un système de photolithographie complet afin d'étudier vos spécifications. Fixation pour l'alignement de masque Supports de substrats Le support du substrat doit faire 25,4 mm de moins que le support de masque correspondant ; par exemple un substrat de diamètre extérieur 76,2 mm requiert un masque de 101,6 x 101,6 mm. Lors de la commande, indiquez l'épaisseur du substrat. La tolérance est de ±0,19 mm. Si les épaisseurs varient de plus de 0,254 mm, des supports séparés sont...

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