Capteurs & Applications

dans l’industrie des semi-conducteurs

09 10 05 Revêtement de résine photosensible 'avure & Implantation ionique éveloppement & aitement thermique Les tâches de mesure dans l’industrie des semi-conducteurs imposent des exigences élevées aux capteurs utilisés. Pour l’ensemble de la chaîne de processus dans la fabrication et le traitement des semi-conducteurs, Micro-Epsilon propose une large gamme de capteurs de déplacement de haute précision, utilisés pour différentes tâches de mesure. Nos capteurs ont fait leurs preuves à toutes les étapes du processus et sont utilisés dans le monde entier par des constructeurs de machines et des...

Fabrication en interne avec des équipements ultramodernes pour des temps de réaction très rapides Des décennies d'expérience et de savoir-faire sectoriel Grande capacité de livraison et coopération durable Capteurs et accessoires en matériaux à faible dégagement de gaz

Pourquoi Micro-Epsilon ? Plus de précision et d’innovation – Made in Germany Prêt pour le Semicon En raison des exigences élevées qui sont à la base de la production de capteurs, tous les capteurs et systèmes de Micro-Epsilon sont soumis à des processus de fabrication et de contrôle complexes. Cela concerne le choix et le placement des composants électroniques, la fabrication mécanique ainsi que les technologies spéciales des procédés de fabrication. Les procédés utilisés permettent de fabriquer des capteurs, des actionneurs et des mécaniques de précision répondant aux exigences de qualité les...

■ Mesures sans contact à distance de sécurité ■ Des capteurs robustes pour les environnements difficiles ■ Haute précision et stabilité du signal

Surveillance du mouvement axial des scies annulaires Les scies annulaires sont utilisées pour couper les lingots de silicium. Pour cela, la lame de scie ou le support sont surveillés par des capteurs à courants de Foucault. Grâce à leur fréquence limite élevée et à leur insensibilité à la poussière et à la saleté, les capteurs fournissent des valeurs de mesure fiables de la déviation axiale de la lame de scie. Cela permet d’assurer une découpe homogène et régulière des plaquettes de silicium. Capteur : eddyNCDT Surveillance du fléchissement des scies à fil Les scies à fil sont utilisées pour...

Mesure a grande resolution jusqu'au niveau nanometrique Fréquence de mesure rapide pour une surveillance dynamique des processus Idéal pour régler et surveiller l'alignement d

Positionnement et alignement des masques lithographiques Dans le processus de lithographie, une mesure à grande résolution et stable à long terme des mouvements de la machine est nécessaire pour obtenir une précision maximale. En fonction des exigences de précision, de l’espace de montage et des spécifications techniques de mesure, différents procédés de mesure de Micro-Epsilon sont utilisés et surveillent l’alignement ultraprécis et le positionnement fin des masques Des capteurs confocaux chromatiques surveillent l’espace entre le masque et le verre. Grâce à leur forme de construction à 90°,...

Surveillance du système de lentilles  Mesures sans contact avec une dynamique élevée  Grande résolution jusqu'au nanomètre  Capteurs optiques et électroma

Mesure de la position de lentilles et de systèmes optiques Des capteurs de déplacement hautement dynamiques détectent sans contact la position des éléments de lentilles et des miroirs afin de produire la plus grande précision d’image possible. Les capteurs mesurent à la fois contre le support métallique et directement sur la lentille. Ainsi, les capteurs détectent le mouvement horizontal et vertical des différents miroirs, lentilles et supports de lentilles. Les capteurs confocaux sont utilisés pour mesurer l’alignement de l’optique. Plusieurs capteurs mesurent alors directement sur l’optique...

Positionnement lors de la manipulation des wafers Mesures sans contact de haute précision Surveillance à grande résolution des wafers et des mouvements de machine Idéal pour les réglages et l'al

Détermination de la position lors de la manipulation des wafers Lors de la manipulation des wafers, le positionnement exact et reproductible est décisif. Pour l’alimentation des wafers, deux micromètres laser optoCONTROL contrôlent le diamètre et déterminent ainsi la position horizontale. Grâce à la fréquence de mesure élevée et à la grande précision de mesure, les micromètres fournissent une information fiable sur la position. Capteur : optoCONTROL 2520 Mesure de l'inclinaison des wafers Lors de l’alimentation des wafers, des interféromètres à lumière blanche sont utilisés pour mesurer l’inclinaison...

Surveillance de la position dans le porte-plaquette Mesures sans contact avec une précision nanométrique Robuste et insensible aux champs magnétiques, aux CEM et aux accélérations Capteurs conçus pour le vide et l'

Positionnement du porte-plaquette Les capteurs sans contact de Micro-Epsilon sont utilisés pour surveiller la position du porte-plaquette. Ils y mesurent les mouvements XYZ hautement dynamiques. Les capteurs inductifs à courants de Foucault atteignent une résolution de l’ordre du nanomètre. Grâce à leur conception robuste et à leur dynamique élevée, la position du porte-plaquette est détectée de manière fiable, même en cas d’accélération maximale. Capteur : capaNCDT/ eddyNCDT Positionnement du porte-plaquette à l'aide de capteurs capacitifs Les capteurs de déplacement capacitifs sont utilisés...